Invention information | ||
| Category | C - Mechanics and general engineering / Mechanika i inżynieria ogólna | |
| Title of invention | ||
| Cylindrical magnetron for the deposition multi-layer or composite coatings | ||
| Invention discription | ||
| The technology MS PVD (Magnetron Sputtering - Phisical Vapour Deposition) uses a magnetron sputtering phenomenon metallic cathode surface, which is the source of ions forming a plasma cathode material entering into chemical reactions and physical interactions with the substrate on which the coating is to be formed. Strong magnetic field causes ionization of atoms sputtered material in the vicinity of the substrate and the electric field between the cathode and the substrate causes acceleration of ions toward the substrate heavily bombarding it. The aim of the invention is to provide a new design of cylindrical magnetron. The essence of the patented new design of the magnetron is used in the sectional multimatalic cathode cooperating with asymmetric with respect to the axis of the cathode magnet. This construction allows the synthesis of magnetron coating of a multilayer structure. Location firing zone in the plasma environment on the sector of the cathode surface allows the operation of the plasma source zones perimeter vacuum chambers. Design features a cylindrical magnetron plasma sources provide high economics of the operation of reports the efficiency of cooling the opportunity to work with high power up to 30 kW and high efficiency cathode material consumption of up to 95%. | ||
| Title of invention | ||
| Rurowy magnetron do napylania wielowarstwowych lub kompozytowych powłok. P-417215 | ||
| Invention discription | ||
| Magnetron cylindryczny z dynamicznym polem magnetycznym jest źródłem plazmy jonów metalicznych. Znajduje on zastosowanie w technikach metalizacji powierzchni prowadzonych w komorach próżniowych. Wykorzystany może być również w procesach i syntezy powłok azotowych, węglikowych, tlenkowych. Cienkie materiały powłokowe znajdują zastosowanie w przemyśle elektronicznym, budowlanym, środków transportu, włókienniczym itp. Cienka powłoka funkcjonalna o grubościach manometrycznych, mikrometrycznych na powierzchni modyfikowanego wyrobu nadaje mu nowe własności fizykochemiczne. W zależności od typu materiału powłokowego i jego budowy strukturalnej uzyskuje się nowe inne lub lepsze cechy funkcjonalne np.: szkło o cechach hydrofobowych i dedykowanych cechach optycznych - selektywnej transmisji światła i ciepła, materiały narzędziowe o wysokiej trwałości eksploatacyjnej, tkaniny o cechach bakteriobójczych i przewodności elektrycznej, wyroby galanteryjne o nowych cechach estetycznych związanych z barwą i połyskiem itp. Istotą nowej patentowanej konstrukcji magnetronu jest to zastosowano w nim katodę segmentową wielometaliczną współpracującą z niesymetrycznym względem osi katody systemem magnetycznym. Taka konstrukcja magnetronu pozwala na syntezę powłok o budowie wielowarstwowej. Usytuowanie strefy rozpalania w środowisku plazmy na wycinku powierzchni katody pozwala na eksploatację źródła plazmy w strefach przyściennych komór próżniowych. Cechy konstrukcyjne cylindrycznego magnetronowego źródła plazmy zapewnią wysoką ekonomikę jego eksploatacji z zgłasza sprawność chłodzenia możliwość pracy z dużymi mocami do 30 kW i wysoka efektywność zużywania materiału katody dochodzącą do 95 % | ||
| Patent | P-417215 | |
| Patent Application | ||
| Date of Patent Application | ||
Owner of the Invention | ||
| Name of company / organization / institution / individual | ||
| English: | Institute of Precision Mechanics | |
| Polish: | Instytut Mechaniki Precyzyjnej | |
| Inventors | First Name, Last Name, Academic degree | |
| Marek Betiuk, Jerzy Michalski, Zbigniew Łataś, | ||